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エリプソメーター

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分光エリプソメーター

オートフォーカス、光学調整、角度自動変更

卓越した設計システム、近い赤外線範囲で測定速度が速いデータ収取、膜厚測定、屈折率、吸光係数などの光学パラメーターの分析。
ワンタッチで操作単層膜及び多層膜の測定が可能。

■アプリケーション
半導体、シリコン太陽光、薄膜太陽光、LED、OLED、AMOLED 、液晶、タッチパネル、各種コーティングなど
例:SiNx、SiO2,Al2O3,TCO, CTO
i-ZnO, Cds, a-Si、CIGS, CdTe Absorber 等

■ 特徴
押しボタン感覚で単層膜から多層膜、あらゆる材料においても測定可能。
膜層の厚みに対しては制限もなく、1nmから数百μmまで測定可能。
一回の測定で多層膜の厚みと屈折率んぽ測定が可能。
一回の測定で数百組のPsi及びDelデータ収集及び,光学バンドギャップの測定ができる。
反射率は測定の中でも最高精度で対応簡単操作で測定時間はわずか2秒
CCDカメラ、ソフトウエア―にてソフト位置確認

反射式膜厚計

■ アプリケーション
機能性フィルム、プラスチック、半導体、化合物半導体、表面処理、光学材料、FPDなど。

■ 特徴
紫外から近赤外域の反射光により、多層膜の膜厚測定・光学定数解析が可能な光干渉式膜厚計です
分光法の採用により、非接触・非破壊かつ高精度で再現性の高い膜厚測定ができます。
薄膜から厚膜まで幅広い測定範囲に対応しています。
(10nm~数百μm)

レーザーエリプソメーター

■ アプリケーション
半導体、シリコン太陽光、薄膜太陽光、LED、OLED、AMOLED、液晶、タッチパネル、各種コーティングなど

■ 特徴
薄膜の膜厚、屈折率を優れた再現性で測定
膜厚と同時に屈折率の測定;
適合測定膜厚は10nmから数百μmの単層膜の厚みを測定
半導体酸化膜、窒化膜、レジスト、ITOなどの膜厚、屈折率の測定
簡単ワンタッチ操作でわずか1秒で測定
多層膜厚,反射率、屈折率,吸光係数,透過率、材料の結晶性及び厚み方向の均一性、消衰係数、偏光解消の測定が可能

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